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潍坊鲁盛水处理设备有限公司
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生物处理单元(以氧化沟为例)巡检
氧化沟系统日常巡检包括以下内容：
氧化沟表面浮渣和泡沫的清除、按散发的气味判断运行是否正常、溶解氧浓度现场检测与在线仪表数据的复核、pH现场检测与在线仪表数据的复核、混合液的颜色、厌氧池混合液泥水分离情况的清澈性。电机及变速器运行情况(噪音、振动、电流和电压等)、机械设备润滑油油位、转蝶、转刷噪音和振动、转蝶和转刷轴承润滑、污泥沉降比(每班一次)、出水堰口调整、水下推流器运行状况及水流流速情况。
巡检过程中应观察混合液的颜色、氧化沟现场气味、厌氧池中泥水分离的清澈性，发现异常应即时通知中心控制室进行调整。
泥水混合物颜色：运行状况良好的氧化沟系统中混合液颜色为黑褐到深黑褐色，若污泥浓度减小，泥水混合物的颜色则由深黑褐色变为浅黑褐色。若充氧量不够，泥水混合物将变为黑色。
气味:正常运行的氧化沟系统气味应有较轻微的霉烂味。若系统运行不正常则可能导致产生有刺激性气味气体。当出现臭鸡蛋味气体时，系统有可能正在发生厌氧反应。应采取的措施提高充氧量。
缺氧段混合液上层清澈性：在正常运行的氧化沟系统中，氧化沟缺氧段泥水混合物上层可以观察到1~2厘米深得清澈层。清澈水层的具体深度取决于氧化沟的流速和活性污泥的可沉淀性。
氧化沟表面泡沫：氧化沟表面有白色泡沫的产生，通常情况下是由于污泥浓度不够引起的。在系统启动的过程中氧化沟表面产生白色泡沫的情况比较普遍，随着污泥浓度的增加出现泡沫的现象可以逐步消失。
氧化沟系统的巡检线路应根据实际情况自行确定;巡检频率应每2小时进行一次，在交接班时应由交班人员和接班人员对系统进行一次巡视和检查，巡检频率宜可依据实际情况进行调整。
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进出水泵站巡检
吸水池水位、吸水池有无杂物，逐台工作机泵的运转声音，三相电压、电流、传感器湿度、温度、水泵出口压力、流量，检查控制柜，切换开关是否设定在设定的自控或手控位置，机泵管道附属设备及机房、门窗是否正常。巡检频率为接班、交班各一次(增加交接班内容)，其余时间每2小时巡检一次，交班巡检还包括设备、仪表、泵房及泵房周边生责任区的卫生与维护工作。
巡检过程中发现问题应立即调整，并记录在记录表中，例如水位低于设定值，应立即停机，检查水位继电器，使恢复正常，若水位**设定值，应通知中控室增开水泵，在泵运转正常后检查水位继电器，使恢复正常;如吸水池有杂物应立即清理，若必须下池清理，则应按“狭小空间内的安全操作要求”操作并通知中控室调人支援与监护，并应检查杂物来源，采取必要措施，防止再发生类似情况;如机泵运转声音不正常，要寻找原因，使其恢复正常;如机泵运行参数不正常则应调整与维护使其正常。当天气突变，例如暴雨即将来临，则应增加巡检，检查门、窗及采取必要的防水防雷措施。设备初次使用，设备经过检查、改造或长期停用后投入系统运行要增加巡检次数，即增加30分、75分各一次，若一切正常即转入正常巡检每120分一次。
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常见污染物及其去除方法
1、碳酸钙垢
在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统出现故障而导致给水PH值升高，那么碳酸钙就有可能沉积出来，应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生，以防止生长后的晶体对膜表面产生损伤，如早期发现碳酸钙垢，可以用降低给水PH至3.0～5.0之间运行1～2小时的方法去除。对沉淀时间长的碳酸钙垢，则应采用2%的柠檬酸清洗液(控制PH不小于4.0)进行清洗。
注：应确保任何清洗液的PH不要低于4.0，否则可能会对RO膜元件造成损害，特别是在温度较高时应注意，高的PH不应**10.0。可使用氢氧化钠来提高PH，使用硫酸或盐酸来降低PH值。
2、硫酸钙垢
清洗液2(参见表2)是将硫酸钙垢从反渗透膜表面去除掉的佳方法。
3、金属氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸垢的方法，很容易地去除沉积下来的氢氧化物(例如氢氧化铁)。
4、硅垢
对于不是与金属化物或物共生的硅垢，一般只有通过专门的清洗方法才能将他们去除。
5、沉淀物
沉积物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除，为了防止再繁殖，可使用经公司认可的杀菌溶液在系统中循环、浸泡，一般需较长时间浸泡才能有效，如反渗透装置停用过三天时，好采用消毒处理，请与公司会商以确定适宜的杀菌剂。
6、清洗液
清洗反渗透膜元件时建议采用表2所列的清洗液。确定清洗液前对污染物进行化学分析是十分重的。对分析结果的详细分析比较，可保证选择佳的清洗剂及清洗方法。应记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果，为在特定给水条件下，找出佳的清洗方法提供依据。
对于无机污染物建议使用清洗液1。对于硫酸钙及物建议使用清洗液2。对于严重物污染建议使用清洗液3。所有清洗液可以在高温度为华氏104度(摄氏40℃)下清洗60分钟，所需用品量以每100加仑(379升)中加入量计，配制清洗液时按比例加入药品及清洗用水，应采用不含液离氯的反渗透产品水来配制溶液并混合均匀。
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1、反渗透膜元件的污染物
在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染，这些污染物中常见的为碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物及或无机沉积物。
污染物的性质及污染速度与给水条件有关，污染是慢慢发展的，如果不在早期采取措施，污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。
定期检测系统整体能性是确认膜元件发生污染的一个好方法，不同的污染物会对膜元件性能造成不同程度的损害。表1列出了常见污染物对膜性能的影响。
2、污染物的去除
污染物的去除可通过化学清洗和物理冲洗来实现，有时亦通过改变运行条件来实现，作为一般的原则，当下列情形之一发生时应进行清洗。
①在正常压力下如产品水流量降至正常值的10～15%。
②为了维持正常的产品水流量，经温度校正后的给水压力增加了10～15%。
③产品水质降低10～15%，盐透过率增加10～15%。
④使用压力增加10～15%。